HCl와 HF를 동시에 제거하는 혁신적인 ZTW Tech 솔루션
HCl와 HF를 동시에 제거하는 혁신적인 ZTW Tech 솔루션 ZTW Tech는 산업용 가마에서 발생하는 HCl과 HF를 동시에 제거할 수 있는 혁신적인 솔루션을 제공합니다. 당사의 첨단 기술은 산업용 가마에서 발생하는 다양한 오염물질을 효과적으로 처리하여 대기 오염을 줄이고 환경 보호에 기여합니다. 산성 가스 처리의 중요성 산업 활동으로 인해 발생하는 산성 가스는 대기 오염의 주요 원인 중 하나입니다. 이러한 […]